应用材料公司推出15年来在互连科技中最大的材料变革
· 全新Endura® Volta™系统独特的钴制程可减少互连的瓶颈,助力摩尔定律的延续· 钴制程两项突破性互连应用支持下一代高性能、低能耗芯片· 工业界首次应用选择性化学气相沉积(CVD)金属制程,展示了应用材料公司在精密材料工程中的领导地位2014年5月13日,加州圣克拉拉——应用材料公司推出Applied Endura® Volta™ CVD Cobalt 系统,这是现今唯一一款在逻辑芯...