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比太科技申请用于异质结电池I层钝化的连续镀膜专利,大幅提高镀膜速度

国家知识产权局信息显示,常州比太科技有限公司申请一项名为“用于异质结电池I层钝化的连续镀膜方法、装置及系统”的专利,公开号CN 119121194 A,申请日期为2024年9月。

专利摘要显示,本发明涉及异质结电池钝化镀膜技术领域,具体涉及一种用于异质结电池I层钝化的连续镀膜方法、装置及系统,包括如下步骤:步骤S1,将PECVD腔体的温度预设至220‑260℃,将N型单晶硅片送入PECVD腔体;步骤S2,启动第一电源,通入O2和SiH4,电磁场的功率设定为100‑600W,在N型单晶硅片的表面得到I1层;步骤S3,启动第二电源,通入SiH4,电磁场的功率设定为100‑400W,在I1层的表面得到I2层;步骤S4,启动第三电源,通入SiH4和H2,电磁场的功率设定为100‑400W,在I2层的表面得到I3层;步骤S5,将I层钝化的N型单晶硅片送出PECVD腔体;本发明在沉积I1层的同时通入O2以抑制高温带来的外延生长,配合电磁场,从而在高温环境下大幅提高了镀膜的速度。

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