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02月 2025
比太科技申请用于提高异质结电池N面场钝化效应的线性连续镀膜专利,利用电磁场加快镀膜速率
国家知识产权局信息显示,常州比太科技有限公司申请一项名为"用于提高异质结电池N面场钝化效应的线性连续镀膜方法"的专利,公开号CN 119491211 A,申请日期为2024年11月。专利摘要显示,本发明涉及SHJ电池微晶镀膜技术领域,具体涉及一种用于提高异质结电池N面场钝化效应的线性连续镀膜方法,包括如下步骤:...