4月16日国家知识产权局信息显示,理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名为"微晶硅氧膜层的制备方法、异质结太阳电池及其制备方法"的专利,公开号CN 119824397 A,申请日期为2024年12月。专利摘要显示,本发明提供微晶硅氧膜层的制备方法。所述微晶硅氧膜层的制备方法首先将沉积有本征非晶硅...

本篇报告认为设备是解决 HJT 效率提升和成本下降两大产业化难题的关键点之一,结合 HJT 电池的制造特点,通过梳理主流厂商 PECVD 和 PVD 设备的工艺技术路线、设计理念和发展现状,探究了 HJT 设备产业化的发展潜力, 认为通过多角度挖潜,PECVD 和 PVD 设备降本提效仍具挖潜空间,看好国产设备厂商与下游...