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光晋科技申请用于HJT型异质结电池制造的PECVD设备零部件致密性本色阳极氧化层相关专利,解决封孔等多项问题

2025年3月17日国家知识产权局信息显示,光晋科技(合肥)有限公司申请一项名为“一种应用于HJT型异质结电池制造的PECVD设备零部件的致密性本色阳极氧化层的制备方法”的专利,公开号CN 119615323 A,申请日期为2024年12月。

专利摘要显示,本申请涉及电池氧化层制备技术领域,且公开了一种应用于HJT型异质结电池制造的PECVD设备零部件的致密性本色阳极氧化层的制备方法,本方案以下所述的步骤:步骤一:脱脂、脱脂后水洗;步骤二:碱洗、碱洗后水洗;步骤三:硝酸抛光、抛光后水洗;步骤四:混酸抛光;步骤五:抛光、抛光后水洗;步骤六:漂洗浸泡;步骤七:阳极氧化、阳极氧化后水洗;步骤八:封孔、去遮蔽;步骤九:检查工件,本申请中解决杂质问题导致的氧化膜暗淡无光的问题;解决阳极多孔性结构因电场控制问题的多孔结构不均匀,孔径大、孔隙率高的问题;解决封孔过程产生的封孔灰问题,解决Ca、Zn、K、Na、Mg元素污染问题。

天眼查资料显示,光晋科技(合肥)有限公司,成立于2016年,位于合肥市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本11100万人民币,实缴资本11100万人民币。通过天眼查大数据分析,光晋科技(合肥)有限公司参与招投标项目3次,专利信息20条,此外企业还拥有行政许可12个。

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